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一、UV紫外光氧化技術(shù)在污水除臭效果中影響因素分析：

UV紫外光氧化處理污水臭氣效果受污水臭氣濃度、設(shè)備停留時(shí)間、紫外燈輻照強(qiáng)度、環(huán)境溫濕度、氧含量等多因素影響而不同。

( 1) 空塔停留時(shí)間對(duì)系統(tǒng)除臭效果的影響

實(shí)驗(yàn)研究了在平均紫外輻射照度 1664 μW·cm－2 和初始 H2S 濃度在約 125 mg·m－3，初始 NH3 濃度約 0. 55 mg·m－3 的情況下，不同流速即不同空塔停留時(shí)間對(duì) H2S 和 NH3 氣體去除率的影響，得到去除效果與空塔停留時(shí)間之間的關(guān)系，如圖 2 所示． 結(jié)果表明，當(dāng)流速 v = 1． 5 m·s － 1 ，對(duì)應(yīng)空塔停留時(shí)間為 4. 5 s時(shí)，H2S 去除效果最佳，平均去除率可以達(dá)到 35．7% ． 當(dāng)流速增加到 v = 5．2 m·s－1 ，對(duì)應(yīng)空塔停留時(shí)間為 1．3 s 時(shí)的去除率，H2S 去除率下降至 20% ．對(duì)于 NH3 的去除效果，去除率變化趨勢(shì)隨著空塔停留時(shí)間的增加而增大，當(dāng)停留時(shí)間為 1．5 s 時(shí)，NH3 的去除率要低于 1．3 s 時(shí)的去除率，這是由于污水廠中惡臭物質(zhì)濃度隨著時(shí)間存在波動(dòng)，而 1．3 s 和 1．5 s 兩個(gè)停留時(shí)間比較接近，因此停留時(shí)間這一因素不能很好地反映出來(lái)。當(dāng)空氣中的水蒸氣和氧氣在接受 hv的能量后，激發(fā)產(chǎn)生強(qiáng)氧化性的·OH，停留時(shí)間越長(zhǎng)，使得惡臭物質(zhì)與紫外燈產(chǎn)生的·OH能夠更加充分反應(yīng)． 從圖 2 的結(jié)果可以看出，同樣的工況下，NH3 的去除率要高于 H2S 的去除率，這是由于 NH3比H2S 的濃度低．

( 2) 惡臭物質(zhì)濃度對(duì)系統(tǒng)除臭效果的影響 
考慮到工廠可能出現(xiàn)的最不利情況，即惡臭氣體的排放速度較大，在系統(tǒng)內(nèi)停留時(shí)間較短，為評(píng)價(jià)紫外除 臭系統(tǒng)在 種情況下的理 效 果，對(duì)當(dāng) 空塔停留時(shí)間為 1．5 s，平 均 紫 外 燈 輻 照 強(qiáng) 度 1664 μW·cm- 2 ，紫外除臭系統(tǒng)對(duì)不同進(jìn)氣濃度下 H2 S 和 NH3 的處理效果進(jìn)行了評(píng)價(jià)，結(jié)果如圖 3 所示． 圖 3 結(jié)果表明，紫外除臭系統(tǒng)對(duì)惡臭物質(zhì)的去除率隨初始物質(zhì)濃度的升高而降低． 當(dāng) H2 S 進(jìn)口濃度為 35 mg·m－3 ，H2 S 去除率為 34．3% ，NH3 進(jìn)口濃度為 0．26 mg·m－3 時(shí)，其去除率達(dá)到 53．8% ． 這是因?yàn)樽贤庹丈浞纫欢〞r(shí)，紫外燈產(chǎn)生的光子能量是有限的，因而被激發(fā)的·OH也是一定的． 所以當(dāng)初始惡臭物質(zhì)增加，單位體積惡臭物質(zhì)被·OH氧化量變少，導(dǎo)致去除率的降低。

( 3) 紫外輻射照度對(duì)系統(tǒng)除臭效果的影響 
通過(guò)改變紫外燈管的開(kāi)關(guān)數(shù)目來(lái)調(diào)節(jié)除臭系統(tǒng)的紫外輻射照度，用紫外輻照計(jì)測(cè)定某時(shí)刻反應(yīng)裝置4 個(gè)角的紫外輻射照度，并取平均值作為該工況下的照度值，考察了不同輻射照度下，H2 S 和 NH3 去 除率的變化．如圖 4 所示，當(dāng)停留時(shí)間為 1．5 s 時(shí)，去除率隨著紫外輻射照度的增大而升高． 這是由于能 夠與惡臭物質(zhì)反應(yīng)的·OH的產(chǎn)生量與紫外輻射照度呈正相關(guān)． 而·OH的濃度越高，惡臭物質(zhì)的去除效果越好．

二、結(jié)論：

( 1) 紫外光氧化反應(yīng)器對(duì)污水處理廠中的典型惡臭物質(zhì) H2S 和 NH3 有明顯的去除效果．在停留時(shí) 間為 1．5 s，平均紫外輻射照度 1664 μW·cm －2 的條件下，進(jìn)口 H2S 和 NH3 濃度分別為 35 mg·m －3 和 0．26 mg·m －3 時(shí)，二者的去除率分別可以達(dá)到 34．3% 和 53． 8% ．
( 2) 在本實(shí)驗(yàn)條件下，紫外光氧化反應(yīng)器對(duì) H2S 和 NH3 的去除速率隨紫外輻射照度增大而線性增加，隨進(jìn)口濃度增加而增大且趨近于某極限值．反應(yīng)器臭氧產(chǎn)生速率隨進(jìn)口惡臭物質(zhì)濃度增加而線性減小，隨紫外輻射照度增加而增大且趨近于某極限值．